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光觸媒催化劑高剪切分散機(jī),我們的高剪切研磨分散設(shè)備就能夠很好的解決這一問(wèn)題,GMSD2000研磨分散機(jī)是三級(jí)高剪切研磨分散機(jī)可以先對(duì)物料進(jìn)行膠體研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過(guò)分散盤(pán)對(duì)物料進(jìn)行剪聚分散。我們也可以根據(jù)物料的粗細(xì)程度提供不同的分散盤(pán)。
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光觸媒催化劑高剪切分散機(jī),光觸媒高剪切研磨分散機(jī),二氧化鈦高剪切研磨分散機(jī),二氧化鈦研磨分散機(jī),二氧化鈦剪切分散機(jī),二氧化鈦納米級(jí)分散機(jī)
光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱(chēng),它涂布于基材表面,在紫外光及可見(jiàn)光的作用下,產(chǎn)生強(qiáng)烈催化降解功能:能有效地降解空氣中有毒有害氣體;能有效殺滅多種細(xì)菌,并能將細(xì)菌或真菌釋放出的毒素分解及無(wú)害化處理;同時(shí)還具備除甲醛、除臭、抗污、凈化空氣等功能。
在所有的光觸媒材料中,納米二氧化鈦不僅具有很高的光催化活性且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無(wú)毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性?xún)r(jià)比,因而市場(chǎng)上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鰹橹饕牧稀?/span>
納米級(jí)材料都有一個(gè)特性那就是容易出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象,納米二氧化鈦材料也不例外。團(tuán)聚是指原生的納米材料顆粒在設(shè)備、分離、處理及存放的過(guò)程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成的較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒小,表面粒子比例大,表面積大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒。
我們的高剪切研磨分散設(shè)備就能夠很好的解決這一問(wèn)題,GMSD2000研磨分散機(jī)是三級(jí)高剪切研磨分散機(jī)可以先對(duì)物料進(jìn)行膠體研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過(guò)分散盤(pán)對(duì)物料進(jìn)行剪聚分散。我們也可以根據(jù)物料的粗細(xì)程度提供不同的分散盤(pán)。
而且我們也有著豐富的經(jīng)驗(yàn),幫助北京的一家公司從小試到中式再到搭建產(chǎn)線(xiàn)。所以說(shuō)我們的有把我做好客戶(hù)的要求。
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量L/H | 輸出轉(zhuǎn)速Rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線(xiàn)速度m/s | 馬達(dá)功率KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300-1,000 | 18,000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
GMSD2000/5 | 1,000-1,500 | 13,500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
GMSD2000/10 | 3,000 | 9,300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
GMSD2000/20 | 8,000 | 3,600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
GMSD2000/30 | 20,000 | 3,600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
GMSD2000/50 | 40,000 | 2,500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
GMSD2000高剪切研磨分散機(jī)參數(shù)表
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 參數(shù)內(nèi)的各種型號(hào)的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
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