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硅橡膠改性研磨分散機(jī),GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
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硅橡膠改性研磨分散機(jī),納米物料改性硅橡膠分散機(jī),硅橡膠改性設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),納米分散機(jī),超細(xì)分散機(jī)
硅橡膠具有優(yōu)異的耐熱性、耐寒性和電性能,廣泛用于電絕緣制品和密封制品等領(lǐng)域中,近幾年得到了長(zhǎng)足發(fā)展。隨著工業(yè)化水平的不斷提高,人們對(duì)硅橡膠的要求也越來越高,傳統(tǒng)的硅橡膠產(chǎn)品難以滿足人們的要求,尤其在機(jī)械性、阻燃性和抗老化性等方面,因此,對(duì)硅橡膠進(jìn)行改性勢(shì)在必行。
納米粒子具有量子尺寸效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng),因而展現(xiàn)出許多*的性質(zhì)。在催化、光吸收、磁介質(zhì)及新材料等領(lǐng)域有良好的發(fā)展前景,在對(duì)高分子材料性能的改善與提高方面也具有巨大的發(fā)展空間。利用納米材料作為改性劑對(duì)室溫硫化硅橡膠進(jìn)行相關(guān)性能研究是一種新穎而有效的手段,納米SiOx粒子尺寸在10-15 nm,表面原子數(shù)目多,具有較高的表面能和表面結(jié)合能;
同時(shí),納米SiOx粒子表面氧原子大量流失,納米SiOx分子式中值在1.2~1.6之間,因而粒子表面欠氧而具有不穩(wěn)定的硅氧結(jié)構(gòu);另外,納米SiOx粒子表面還含有大量羥基,表面羥基值高達(dá)48%。因而利用納米SiOx對(duì)室溫硫化硅橡膠改性時(shí)將產(chǎn)生特殊的效果。并且,納米SiOx的主要成分與室溫硫化硅橡膠的主鏈組成相同,有利于納米材料在其中分散。再加以高精密的分散設(shè)備的配合,防止納米SiOx在分散中形成二級(jí)團(tuán)聚體,SGN研磨分散機(jī)在納米改性硅橡膠領(lǐng)域有著豐富的經(jīng)驗(yàn),設(shè)備的結(jié)構(gòu)以及高的轉(zhuǎn)速,可以很好的將納米物料分散到硅橡膠中,從而更充分的改進(jìn)硅橡膠的性能。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
GMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
硅橡膠改性研磨分散機(jī),納米物料改性硅橡膠分散機(jī),硅橡膠改性設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),納米分散機(jī),超細(xì)分散機(jī)
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